GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨，采用了二級處理結構，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據客戶對物料的處理要求開配定轉子，定轉子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉子精密度都達到了水平。
GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨使用皮帶輪按照1：3的比例變速，轉速可達9000rpm，通過變頻調節(jié)后轉速zui高可達14000rpm，是普通國產膠體磨轉速的3-4倍，立式分體式結構，運行平穩(wěn)，符合衛(wèi)生級標準。
GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨采用了二級處理結構，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據客戶對物料的處理要求開配定轉子，定轉子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉子精密度都達到了水平。保證粉底液在達到研磨細度的基礎上，達到顆粒粒徑分布范圍小，乳液穩(wěn)定性高的效果。
原理：
粉底液膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。
粉底液膠體磨的結構：
粉底液膠體磨是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨2、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
粉底液膠體磨 GMD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
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GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
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產品相關關鍵字： 高剪切膠體磨
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